La Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) reveló los métodos de fotolitografía que desarrolla para fabricar chips
computacionales a gran escala durante los próximos tres años. Así lo oficializó durante el Simposio Tecnológico de Norteamérica,
celebrado en Santa Clara, Estados Unidos.
¿Qué es la fotolitografía?
La fotolitografía es un proceso técnico que emplea luz para grabar patrones de circuitos computacionales en obleas de silicio,
principal material compuesto que se usa en la fabricación de chips informáticos. La luz ultravioleta es la principal radiación del
espectro electromagnético utilizado para este fin.
Tecnologías de 1,2 y 1,3 nanómetros
En aras de concretar este objetivo para el año 2029, producirá masivamente las tecnologías de integración A12 y A13, las cuales
derivan de su fotolitografía A14. Desde un punto de vista comercial, estas serán las primeras tecnologías de 1,2 y 1,3 nanómetros de
TSMC. El subdirector de operaciones de TSMC, Kevin Zhang, expresó que el equipo de la compañía logra nuevos métodos para
impulsar el desarrollo tecnológico, sin emplear los equipos de litografía ultravioleta extrema (UVE) de la empresa neerlandesa ASML.
